Pracownia Inżynierii Powierzchni

Aparatura technologiczna i pomiarowa do realizacji i badań procesów cienkowarstwowych:

• napylarka próżniowa NA501 wyposażona w 3 źródła termiczne do nanoszenia PVD cienkich warstw metodą naparowania,
• napylarka próżniowa NAL301 wyposażona w 2 urządzenia magnetronowe WMK50 oraz 2 zasilacze DORA System 10 kW do szybkiego nanoszenia PVD cienkich warstw metalicznych metodą rozpylania magnetronowego HPPMS, z możliwością prowadzenia procesu metodą dual-magnetron sputtering, w tym procesów z udziałem gazów reaktywnych,
• napylarka próżniowa NAL301 wyposażona w źródło magnetronowe oraz zasilacz o mocy 1 kW wraz z układem „matching network” do realizacji procesów PVD RF magnetron sputtering – nanoszenia cienkich warstw dielektrycznych,
• stanowisko do fotolitografii bezmaskowej metodą projekcji LCD,
• spin coater POLOS® SPIN150x,
• płyta grzewcza POLOS® HOTPLATE 200,
• urządzenia do precyzyjnej obróbki ściernej materiałów ceramicznych,
• profilometr optyczny KLA Filmetrics Profilm 3D z układami: White Light Interferometry (WLI), Phase shifting interferometry (PSI) oraz Enhanced Roughness Mode (ERM),
• mikrointerferometry birefrakcyjne oraz w układzie Mach-Zehnder do pomiarów w świetle przechodzącym i odbitym,
• spektrofotometr Cary 5E do pomiarów spektralnych cienkich warstw,
• układ mikrowagi kwarcowej do pomiaru grubości nakładanych warstw w trakcie prowadzenia procesu PVD (wykonany w Instytucie Inżynierii Biomedycznej PB),
• laserowy interferometr plamkowy do pomiarów mikroodkształceń układów cienkowarstwowych,
• mikroskopy optyczne o różnych zakresach powiększeń,
• stanowisko do badań efektu rezonansu plazmonów powierzchniowych w układach cienkowarstwowych.